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功夫型/空间型ALD设备

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功夫型/空间型ALD设备

  技术特点 Features  

· 低温沉膜，膜层厚度精度可控 。

· 膜层致密性好无孔洞，优良的台阶覆盖率 。

· 利用于晶硅电池、钙钛矿、HJT、HBC、微电子器件造作等行业 。




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