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磁控溅射镀膜设备(PVD)

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磁控溅射镀膜设备(PVD)

  技术特点 Features  

· 低温低损工艺、低阻高透工艺、高温工艺≥ 300℃。

· 产品系列从研发设备至量产设备全面布局。

· 立式传送&卧式传送。

· 利用于钙钛矿、HJT、HBC光伏/面板显示/芯片/锂电池等行业。


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