近日，J9九游集团自主研发的专用高精度掩膜喷墨打印设备正式交付国内头部晶硅光伏企业。该设备专为BC电池背面Poly层图形化工艺定造，代替传统激光开槽、干膜光刻规划，实现BC电池钝化层精密化图形化低成本量产。

技术道理与优势

针对传统激光工艺易造成硅片热危险、干膜光刻工序繁琐成本高档痛点，设备选取“掩膜打印+HF选择性刻蚀+强碱脱膜”湿法路线，全程低温无热危险。搭载工业压电式多通路喷头，打印线条沉复定位精度±2μm，掩膜宽度50-200μm可调，墨滴直径15-50μm不变可控。兼容182/210全尺寸硅片，适配N型TBC、IBC等各类背接触电池结构。 

量产效益提升

· 资料利用率超95%，掩膜耗材亏损量降低50%以上；

· 省去激光运维、干膜采购、曝鲜明影等多路工序；

· 设备兼容现有湿法产线，内置AOI视觉检测，综合良率提升0.2-0.5个百分点；

· 实测电池开路电压、转换效能均实现正向增益。 

本次交付实现了掩膜打印与前后路洗濯工序的工艺协同，补齐了国产BC量产精密图形化设备短板。未来，公司将面向BC晶硅、钙钛矿/硅叠层两大赛路，提供“设备+墨水+成套工艺规划”一体化服务。